刘添彪，男，31岁，拥有3年半导体材料和设备研发经验，专注于掩膜版新材料研发、工艺优化及项目管理。熟悉i-line、KrF、ArF、EUV掩膜版技术，具备超精细研磨抛光、离子束抛光及飞秒激光加工等先进技术的实践经验。在高纯靶材国产化、光刻胶开发等“卡脖子”技术领域取得突破性成果，撰写多篇专利，并与国内龙头企业合作推动技术落地。具备扎实的材料科学背景，熟练掌握多种材料表征和测试技术，如高压原位拉曼光谱、同步辐射等。责任心强，创新能力突出，善于团队协作与问题解决，致力于通过技术创新推动半导体材料国产化进程。