朱俊，男，博士、教授，博士生导师，1966年1月生，籍贯江苏省。在南京大学物理系完成本科、硕士和博士的学习，1995年至1996年在德国亚堔工业大学(RWTH-Aachen)做访问学者进行合作研究。2004年4月到成都电子科技大学微电子与固体电子学院从事教学、科研工作至今。
在科研工作上，主要从事电子功能薄膜材料制备以及结构与性能相关性的研究。负责或参加了国家重大基础研究“973”项目（两项）、国家自然科学基金重点项目（一项）和国家自然科学基金面上项目（三项）、总装预研重点项目（一项）、国家重点研发计划课题（一项）以及其他国家级研究项目多项。对Si基栅介质Hf系氧化物高介电薄膜进行了创新的研究；对BST、PZT、LN等介电、铁电薄膜以及BFO、CFO等磁电薄膜的生长制备及结构与性能相关性的物理机理进行了系统的探索性研究；在氧化物功能薄膜与宽禁带半导体GaN的集成生长与耦合性能做了大量原创性的研究。迄今已在国外核心杂志(SCI)上，如：Applied physics letter， J. Applied physics ， Applied Physics A，J. Phys. D: Appl. Phys， Journal of Crystal Growth， Thin Solid Films等发表140多篇论文；并获中国发明专利12项。在国际、国内学术会议上做邀请或口头报告20多次。目前研究兴趣在介电、铁电、铁磁和半导体等薄膜及异质复合结构的制备、新性能的研究，以及探索多功能复合新器件的应用。